Sputterande mål
Sputtermål är specialiserade material som används för tunnfilmsavsättning i olika industrier, inklusive elektronik, energi och textilier. Dessa mål kan vara sammansatta av olika elementära eller legerade sammansättningar, såsom rena metaller eller keramik, och bombarderas av joner, vilket gör att atomer eller molekyler stöts ut från deras yta. Dessa partiklar avsätts sedan på ett substrat för att skapa en tunn, enhetlig film. Det finns olika typer av sputtermål, inklusive plana eller roterande mål och en rad material, såsom guld, silver, titan och volfram. Deras val beror på olika faktorer som applikationskrav, materialegenskaper och kompatibilitet med förstoftningssystemet.
1
–
15
av
71
Resultat
7
Aluminum sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.999% (metals basis)
CAS: 7429-90-5 Molekylformel: Al Molekylvikt (g/mol): 26.98 MDL-nummer: MFCD00134029 InChI-nyckel: XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N Synonym: aluminum,metal,powder,aluminio,metana,adom,alumina fibre,aluminum flake,dust,noral aluminum PubChem CID: 5359268 ChEBI: CHEBI:33629 IUPAC-namn: aluminium LEDER: [Al]
